为期三天的226SEMICON China于3月27日在上海新博览中心落下帷幕。国内先的半体光掩膜制造商圳清溢微电子有限公司(以下简称“清溢微”)携多款端光掩膜家具及惩处案入驻本届嘉会，凭借其在佛山新工场节点掩膜版的技巧打破与谨慎的量产技艺嘉峪关铁皮保温，眩惑了半体产业链高卑劣稠密客户的度护理，展会时分终了的相似合营效用丰硕。

　　图：清溢微参展团队

　　本届SEMICON China上，清溢微展台东说念主头攒动，相似氛围相等强横。清溢微展出的针对能计较、车规芯片及三代半体等域的端光掩膜惩处案，成为现场护理的焦点。通过什物展示、Roadmap告白及工程师现场缓助，清溢微全位展现了其在4nm及以上制程的光掩膜制造域的新量产效用。

　　图：到展台盘问的各界一又友

　　刻下半体工艺制程抓续微缩、原土化供应链需求日益蹙迫。光掩膜是半体制造的中枢材料，手脚芯片诡计与晶圆制造之间的关键桥梁，其精度与良憨径直决定着芯片的能与量产率，光掩膜的自主可控关于原土产业链安全至关要紧。清溢微手脚产业链上游的关键环，正加快进其端光掩膜技巧迭代升，为国产替代原土化程度按下加快键。公司总司理及总亲临展会现场，与多国内头部晶圆厂、IC诡计公司及封装企业进行了入相似。SEMICON是各人半体行业的风向标，本届SEMICON让咱们刻感受到，业界关于质地、可靠的原土光掩膜需求为蹙迫。清溢微凭借在光掩膜域多年的技巧积蓄，已奏效构建起袒护25nm，18nm，13nm，11/9nm，设备保温施工55/4nm的好意思满技巧图谱。咱们不仅护理技巧的打破，奋发于于通过清爽的产能录用、不凡的品控技艺和敏捷的客户工作，成为撑抓半体产业质地发展的坚实后援。

　　图：到展台盘问的各界一又友

　　通过这次参展，清溢微不仅展示了其在端光掩膜国产化程度中的阶段效用，明确了过去的发展向。清溢微暗意，将延续加大研发参预，加快进4nm/28nm节点光掩膜技巧的研发考据与量产技艺成就，逾越擢升在车规芯片、端逻辑芯片及存储器等关键哄骗域的市集占有率。咱们但愿通过抓续的技巧变嫌，不仅惩处“有”问题，在质地、工作和清爽上达到活水平，成为客户值得相信的永恒伙伴。

　　图：到展台盘问的各界一又友

　　清溢微至心感谢系数新老客户及合营伙伴在展会时分的护理与支抓。公司将以此为机会，抓续耕光掩膜技巧域，以不凡的家具与惩处案，助力半体产业登攀新度。

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